mu_sking 发表于 2025-1-20 08:42:49

国产“28nm光刻机”21年就开始量产了

源自中科院高能物理研究所的报道。https://news.qq.com/rain/a/20210304A0CFJW00
文中指出：“一旦国产光刻机突破28nm以下技术，将产生极大“燎原”之势。”——问题来了，3年多过去了，燎原究竟开始没有？
个人觉得文中精华部分是这段话：“在西方世界的严格技术出口限制下，可能无法确定上海微电子的步调是快了还是慢了。但不妨放眼全球半导体关键发展节点，从中寻找那些政府与企业共同引导与投入的可参照经验。当然，借鉴可以，但不能盲目。英国一位经济学家曾指出，政府与企业长期而富有战略性的引导和投入，是突破性创新的绝对先决条件。是的，在光刻机领域，需要国家的战略投入，及引导政府、科研与企业等协同发展。因为这是一场民族图腾。”我始终觉得前道光刻机研发岗是对中国普通人来说最舒服的职业——一说待遇，那就是重要（民族图腾）；一说进展，那就是涉密；一说考核，那就是无法确定步调快了还是慢了、要政府和企业长期投入，要宽容试错。
从14年底15年初“28nm光刻机”概念出现以来，对“试错”宽容了10年，从业者拒绝了共三期大基金的垂青（抑或是被大基金无视？）显见是打算继续“试错”20年甚至更久直至头发花白退休为止
这还只是单设备。国产大飞机C919从立项到首飞也就不到11年的时间，世界上再也没有哪群普通人比国产前道光刻机研发者更特殊了。人“下周回国”贾老板的FF2.0都实打实生产了13辆呢

逆风三段 发表于 2025-1-20 08:43:35

寒汀幽篁 发表于 2025-1-20 08:44:14

那玩意根本没法用，光源功率太低了，比阿斯麦和尼康20年前上的机器光源还差

xmlsssss 发表于 2025-1-20 08:44:24

而且大陆半导体何止一个光刻机欠账啊，整个前道设备九成都得从东京电子买，连切割硅晶棒的切割机都是从日本ntc买

bh8e4z8use 发表于 2025-1-20 08:45:02

SSA800距离堪用还挺遥远

nqo43o31 发表于 2025-1-20 08:45:07

日美那两家duv光源厂也是目前唯二能提供euv光源的，它们在duv时期技术就远强于其它厂商，看上面的图片就能知道它们的duv光源有多强了

nm7v3ddr5g 发表于 2025-1-20 08:45:29

整个euv系统最难的还不是光源而是反射镜组，其他方面有长期半导体技术积累的日本基本都能搞定，而镜组尼康只能做到0.25na,阿斯麦上的蔡司可以做到0.33最新的high na可以做到0.55。经常拿出来吹比的长光所目前水平连尼康脚后跟都碰不到，别说euv反射镜连duv常规镜组都和尼康等有巨大差距，国内光学基础就薄弱那个活在自媒体里的长光所生源质量还差，没有好的人才和时间能凭空出成果？

wx123456 发表于 2025-1-20 08:46:23

芯片制造不是靠自媒体今天吹吹那明天验收通过那 就能马上冒出来，需要几十年的持续投入才能出成果，以下这是国产设备目前的水准，说实话这几年已经是有了不小进步了但和先进水平还是全方位的明显差距

8TK7b2hb4f 发表于 2025-1-20 08:47:16

可惜官网已经没有年鉴了，原理样机90w，功率也不小

页: [1]
查看完整版本: 国产“28nm光刻机”21年就开始量产了